在芯片制造所需的超高真空环境中,腔体材料的放气特性直接影响真空度的获得与维持。因科镍625以其优异的综合性能,成为高端真空腔体的首选材料。我们通过优化的热处理工艺和表面处理技术,使材料满足最严苛的真空要求。

因科镍625圆棒采用特殊的固溶处理工艺:在1150℃保温2小时,随后以每分钟50℃的速率控制冷却至600℃,最后空冷至室温。这一精确的热处理过程使材料获得均匀的奥氏体组织,晶粒度控制在ASTM 5-7级,有效减少了晶界面积,从而降低了气体吸附和扩散通道。

在放气率测试中,经过优化处理的材料表现出卓越性能。在250℃烘烤24小时后,材料放气率降至3.2×10⁻¹¹ Pa·m³/s,远低于常规不锈钢的10⁻⁹ Pa·m³/s水平。通过质谱分析显示,主要放气成分为水汽和氢气,其中水汽分压占比从初始的75%降至烘烤后的25%。

我们建立了完整的真空材料评价体系,包括放气率测试、出气成分分析和表面能测量。采用Auger电子能谱分析表面元素分布,确保在经历多次高温烘烤后,表面铬含量仍保持在18%以上,维持稳定的钝化膜特性。每批次材料都经过严格的氦泄漏检测,确保漏率低于1×10⁻¹¹ Pa·m³/s。
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